Feiteng Magnetron Cr Rozpylanie Target OD127 * ID458 * 10

Docelowa płyta chromowa Czysta> 3N5 127 * 458 * 10 Cel rozpylania chromu

Powiązany produkt

Chrom (Chrom), symbol chemiczny Cr, liczba atomowa 24, w układzie okresowym należy do grupy ⅵ B. Nazwa pierwiastka pochodzi od greckiego słowa oznaczającego „kolor”, ponieważ związki chromu są barwne.Stalowoszary metal jest najtwardszym metalem w naturze.Chrom, mający 0,01% w skorupie ziemskiej, zajmuje 17. miejsce.Wolny chrom naturalny jest niezwykle rzadki i występuje głównie w rudzie chromowo-ołowiowej.W przemyśle metalurgicznym chromit jest wykorzystywany głównie do produkcji stopów żelazochromu i chromu metalicznego.Chrom jest stosowany w stali nierdzewnej, częściach samochodowych, narzędziach, taśmach i taśmach wideo.Chromowany metal może być odporny na rdzę, znany również jako Cordometer, mocny i piękny.
Chrom jest niezbędnym pierwiastkiem śladowym w ludzkim ciele.Chrom trójwartościowy jest pierwiastkiem zdrowym, natomiast chrom sześciowartościowy jest toksyczny.Stopień absorpcji i wykorzystania chromu nieorganicznego przez organizm ludzki jest bardzo niski, mniej niż 1%.Stopień wykorzystania organicznego chromu przez organizm ludzki może osiągnąć 10-25%.Zawartość chromu w żywności naturalnej jest niska i występuje w postaci trójwartościowej.

Celem powlekania jest źródło rozpylania, które tworzy różne warstwy funkcjonalne na podłożu przez rozpylanie magnetronowe, wielołukowe powlekanie jonowe lub inne rodzaje systemów powlekania w odpowiednich warunkach technologicznych.Mówiąc prościej, materiał docelowy to materiał docelowy bombardowania szybkimi naładowanymi cząstkami.W przypadku użycia w broni laserowej o wysokiej energii, różne gęstości mocy, różne kształty fali wyjściowej i różne długości fali lasera oddziałują z różnymi celami, powstaną różne efekty zabijania i niszczenia.

1) Zasada rozpylania magnetronowego:
Pomiędzy napylonym biegunem tarczy (katodą) a anodą dodaje się prostopadłe pole magnetyczne i pole elektryczne, a wymagany gaz obojętny (zwykle gaz Ar) jest wprowadzany do komory o wysokiej próżni.Magnes trwały wytwarza na powierzchni materiału docelowego pole magnetyczne o wartości 250 ~ 350 Gauss, które tworzy ortogonalne pole elektromagnetyczne z polem elektrycznym wysokiego napięcia.Pod działaniem pola elektrycznego, jonizacja gazu Ar na jony dodatnie i elektrony, celuje i ma pewne podciśnienie, z działania celu od skrajnie pod wpływem pola magnetycznego i wzrostu prawdopodobieństwa jonizacji gazu roboczego, tworzy plazmę o wysokiej gęstości w pobliżu katoda, jon Ar pod działaniem siły Lorentza, przyspieszenie lotu do powierzchni docelowej, bombardowanie powierzchni docelowej z dużą prędkością, atomy napylone na celu działają zgodnie z zasadą konwersji pędu i odlatują od celu z wysoką energią kinetyczną na podłoże do osadzania folii.Napylanie magnetronowe dzieli się na ogół na dwa rodzaje: napylanie DC i napylanie RF.Zasada działania sprzętu do napylania prądem stałym jest prosta, a szybkość napylania metalu jest szybka.Rozpylanie Rf jest szerzej stosowane, oprócz napylania materiałów przewodzących, może również napylać materiały nieprzewodzące, ale także napylanie reaktywne w celu przygotowania tlenków, azotu i węglików oraz innych materiałów złożonych.Jeśli częstotliwość częstotliwości radiowej zostanie zwiększona, staje się ona mikrofalowym napylaniem plazmowym.Obecnie powszechnie stosuje się mikrofalowe napylanie plazmowe typu elektronowego cyklotronowego rezonansu (ECR).
2) Typ celu rozpylania magnetronowego:
Materiał docelowy do napylania metalowego, materiał powłokowy do napylania stopowego, ceramiczny materiał powłokowy do napylania ceramicznego, ceramiczne materiały docelowe do napylania borkowego, ceramiczny materiał docelowy do napylania ceramicznego z węglika, ceramiczny materiał docelowy do napylania fluorkowego, ceramiczne materiały docelowe do napylania azotkowego, cel ceramiczny z tlenkiem, ceramiczny materiał docelowy do napylania selenkowego, ceramiczne materiały celu do napylania krzemowego, ceramiczny materiał celu do napylania siarczkowego, ceramiczny materiał celu do napylania z tellurku, inne cele ceramiczne, tarcza ceramiczna z tlenkiem krzemu domieszkowana chromem (CR-SiO), tarcza do fosforanowania indu (InP), tarcza z arsenku ołowiu (PbAs), ind tarcza arsenkowa (InAs).

Cechy

1. Niska gęstość i wysoka wytrzymałość
2. Dostosowane zgodnie z rysunkami wymaganymi przez klientów
3. Silna odporność na korozję
4. Silna odporność na ciepło
5. Odporność na niskie temperatury
6. Odporność na ciepło